人类过多地使用氯氟烃类化学物质（用CFCs表示）是臭氧层被破坏的主要原因。氯氟烃是一种人造化学物质，1930年由美国的杜邦公司投人生产。

在第二次世界大战后，尤其是进入20世纪60年代以后，氯氟烃大量用作气溶胶、制冷剂、发泡剂、化工溶剂等。另外，哈龙类物质（用于灭火器）、氮氧化物也会造成臭氧层的损耗。

而CFCs物质的非同寻常的稳定性使其在大气同温层中很容易聚集起来，其影响将持续一个世纪或更长的时间。在强烈的紫外辐射作用下，它们光解出Cl原子和Br原子，成为破坏臭氧的催化剂（1个氯原子可以破坏10万个臭氧分子）。

扩展资料：

一、臭氧层破坏对生物圈的影响

由于臭氧层中臭氧的减少，致使照射到地面的太阳光紫外线增强。其中波长为240～329nm的紫外线对生物细胞具有很强的杀伤作用，对生物圈中的生态系统和各种生物，包括人类，都会产生不利的影响。

首先，紫外辐射增强使患呼吸系统传染病的人增加；受到过多的紫外线照射还会增加皮肤癌和白内障的发病率。此外，紫外线的增强对植物、水生生态系统也有潜在的危险，会使城市内的烟雾加剧，使橡胶、塑料等有机材料加速老化，使油漆褪色等。

二、机理

1、氟氯烃化合物

尽管耗竭的机理仍在不断的争论和探索中，但人们普遍认为主要是由人类活动产生的大量氮氧化物、氟氯烃化合物及其他痕量气体进入臭氧层所造成，氟氯烃化合物是致使其耗竭的祸首（尤其是氟里昂）。它们可长期、稳定地存在于高空，经光解产生活性氯自由基（C₁·）及氯氧自由基（C₁₀·），再起催化剂作用使臭氧（O₃）不断耗损。

2、其他化合物

耗竭的另一重要机制是超音速飞机排出的一氧化氮、二氧化氮起催化剂作用的一系列反应。人类文明制造的卤代烃、哈龙、四氯化碳、甲基氯仿等许多用作制冷剂、发泡剂、清洗剂、雾化剂的化合物，都对臭氧（O₃）具有破坏作用。

参考资料来源：百度百科-臭氧层破坏物质

参考资料来源：百度百科-臭氧层破坏