国产光刻机一览
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上海微电子设备有限公司：生产90纳米光刻机设备，也是国内光刻机生产的最高技术水平，落后ASML公司近10年。
中国科学院光电研究所：中国科学院光电研究所研制了一种光刻机，其波长为365nm，曝光分辨率为22nm，即近紫外光，略差极紫外光。
合肥新硕半导体有限公司，无锡像速半导体科技有限公司，先腾光电科技有限公司，中卫公司。
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