关于质子激发X射线荧光分析介绍
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[L]:质子诱导x射线发射分析
用质子激发原子产生的特征x射线的能量和强度对物质进行定性和定量分析的方法。质子x射线荧光分析,简称PIXE。
质子x射线荧光分析是20世纪70年代发展起来的一种多元素微量分析技术,分析灵敏度可达10- 16g,相对灵敏度可达10-6 ~ 10- 7g /g。原子序数大于13的元素原则上可以分析。20世纪80年代初,可以测量的元素有:从铝到铈(除了氩、氪、氙、锝、钯和碲),从钽到铋(除了铼、锇和铱),钍和铀,有些设备还可以分析镁和硼。总共可以测量52种元素。
其基本原理是用高速质子照射样品,样品中的质子和原子产生库仑散射。原子内层的电子以一定的概率被撞出内层,留下一个空穴,外层的电子发射出特征x射线。通过检测仪器对这些特征x射线光谱进行检测和记录,根据特征x射线的能量可以定性判断样品中所含元素的种类,根据谱线的强度可以计算出被测元素的含量。
质子x射线荧光分析的主要实验设备有:
(1)加速器,通常是质子静电加速器,选择能量在1 ~ 3mev的质子,在这个能量范围内,质子激发的x射线产率高,灵敏度高;当质子能量较高时,会引起许多核反应,增加本底。在较低的能量下,质子的穿透性变弱,只能用于表面分析。
(2)靶室(或散射室)是放置分析样品的场所。有一个专用的样品架,包括质子束准直系统、光束平衡装置和聚束装置。探头窗与探测器相连,靶室与真空系统相连。
(3) x射线光谱仪,常用硅(锂)光谱仪。在质子束照射下,样品通过铍窗、空气层和吸收板发射特征x射线进入硅(锂)光谱仪。该光谱仪可在一次测量中记录样品中所有可分析元素的特征x射线光谱。在电子计算机的帮助下,可以进行在线分析,直接给出各元素的含量。
质子x射线荧光分析通常在真空中照射样品(称为真空分析或内束技术),但也开发了一种非真空分析技术(或外束技术),其中从真空室中抽出一束质子并与空气(或氦)中的样品轰击。真空分析可能会导致厚样品积累正电荷(质子电荷)并吸引周围的电子,从而导致更高的背景。非真空分析由于样品周围的空气电离而具有导电性,可以消除电荷积累;空气有冷却作用,使样品不受损坏。此外,在真空室外更换样品方便,不受液体或排气样品的限制,样品大小不受靶室的限制。但是空气中的氩和氪会干扰对一些轻元素的分析。
质子x射线荧光分析中测量的x射线光谱是由连续背景光谱和特征x射线光谱组成的叠加光谱。样品一般含有多种元素,每种元素发出一组特征x射线光谱。相同或相似能量的谱峰叠加在一起。直接识别光谱峰是相当困难的,这需要复杂的数学处理来分解x射线光谱。光谱求解包括背景推导、光谱平滑、寻峰定位、峰半高、峰宽和峰面积。各种光谱的数学解已经被开发出来,并被编入计算机程序。通过求解x射线光谱得到待测元素的特征光谱峰面积(峰数),并根据峰面积计算出该元素的含量。这种直接计算方法需要标定探测系统的探测效率,确定探头与目标的立体角,测量目标上的质子数。
在实际分析工作中,常采用相对测量法,即将样品与标准样品同时进行分析比较,将样品与标准样品中待测元素的特征x射线谱峰计数设为NX和NS,含量设为WX和WS,则可得:
Wx=nxws/ns
任志刚等:《质子X荧光分析和质子显微镜》,原子能出版社,北京,1981。S.hansson和t.Hansson,粒子诱导x射线发射的分析应用,核仪器与方法,Vol.137, pp.473 ~ 516,1976。
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