lpcvd设备的主要功能
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LPCVD器件是一种用于物理、电子和通信技术领域的过程测试仪器。它于2005年8月17日投入使用。
主要功能：沉积多晶硅、氮化硅、二氧化硅、氧化硅等薄膜材料。
技术指标：沉积膜厚度为600A-20000A，极限真空度优于1Pa，沉积膜内均匀度：Si3N43%多晶硅4%，SiO23%。
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