光刻机原理
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硬件型号：陀陀光掩膜UV光刻机
系统版本：平版机系统
光刻机的原理比较简单。其原理是将光源放大，使光源在几秒钟内发出的光脉冲的波长大于被放大材料的原子光谱的横截面周长。所有组合后光刻机(计算机)必须具有相同的功率来完成光刻。根据原子结构的性质，光刻技术将其切割成单个粒子。然后放大，把光从凹槽中取出，雕刻在光滑的表面上。现在有很多光刻材料，其中很多是阳极树脂、玻璃、陶瓷等材料，在工作应力下会发生变形。
光刻的原理
光刻是制作电路和功能区域的芯片。涂有光刻胶的光刻胶片由光刻机通过光学掩膜发出的光曝光。光刻胶的性质在见光后发生变化，使光学掩模上的图形被复制到晶圆上，使晶圆具有电子电路图的作用。这就是光刻技术的作用。就像用相机拍照一样。相机拍摄的照片被印在底片上，而不是照片，光被电路图和其他电子元件捕获。
光刻技术是一种精密加工技术。常规光刻技术是利用波长为2000 ~ 4500埃的紫外光作为图像信息载体，利用光刻胶技术作为中间(图像记录)介质，实现图形的变换、传递和处理，最后将图像信息传递到硅片(主要指硅片)或介质层上的工艺过程。
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